電鍍廠為您講解離子鍍的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

電鍍廠為您講解離子鍍的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

電鍍廠為您講解離子鍍的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

1.離子鍍分散能力強(qiáng)，形狀較復(fù)雜的鍍件也能獲得均勻的鍍層..

在離子鍍過(guò)程中，被鍍?cè)与婋x成帶電離子，會(huì)沿著電場(chǎng)電力線的方向移動(dòng)，所以所有分配電力線的正方形都在離子的范圍內(nèi)。電鍍廠利用電解池原理在機(jī)械制品上沉積出附著良好的、但性能和基體材料不同的金屬覆層的技術(shù)。電鍍層比熱浸層均勻，一般都較薄，從幾個(gè)微米到幾十微米不等。通過(guò)電鍍，可以在機(jī)械制品上獲得裝飾保護(hù)性和各種功能性的表面層，還可以修復(fù)磨損和加工失誤的工件。電鍍利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過(guò)程，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化（如銹蝕），提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性（硫酸銅等）及增進(jìn)美觀等作用。不少硬幣的外層亦為電鍍。 此外，電鍍廠在向工件射擊過(guò)程中不可避免地會(huì)與結(jié)合的蒸汽原子和電子發(fā)生碰撞，從而導(dǎo)致離子產(chǎn)生非定向散射。 因此，在高壓直流電場(chǎng)中陰極位置的工件，無(wú)論是在陽(yáng)極位置面對(duì)蒸發(fā)源的表面，還是背面，無(wú)論是暴露的表面，還是孔和槽，都可以鍍離子。

2、鍍層與基體的結(jié)合工作強(qiáng)度高。

正如前面在離子鍍中所描述的，離子轟擊在電鍍表面的濺射效應(yīng)對(duì)電鍍表面具有凈化作用，去除吸附在電鍍表面的空氣膜和污垢，這種凈化效果一直伴隨著離子鍍過(guò)程。 離子轟擊也會(huì)產(chǎn)生反發(fā)射，基片表面的一些原子被濺射和電離，然后與其他離子返回到電鍍件的表面，從而在涂層與基片表面之間的膜基表面形成涂層材料組成和基片組成的過(guò)渡層或混合層。 此外，離子鍍過(guò)程中的濺射效應(yīng)也可以轟擊基片表面或電鍍材料的原子而不牢固地附著在涂層上。 離子轟擊也會(huì)使整個(gè)表面出現(xiàn)一些晶體缺陷，從而使鍍?cè)拥臋C(jī)械嵌入成為可能。 電鍍廠將所有這些效果都有利于涂層和基體的結(jié)合強(qiáng)度。

3、鍍膜組織細(xì)密。

在離子鍍，離子撞擊大力電鍍表面，它改變了成核薄膜的成核和生長(zhǎng)機(jī)制。實(shí)驗(yàn)表明，隨著負(fù)偏壓電鍍將細(xì)顆粒。組織結(jié)構(gòu)無(wú)疑將精細(xì)涂覆，以獲得良好的機(jī)械性能。

4、突破了鍍層只可以是單一使用金屬或合金的局限，離子鍍可以通過(guò)得到有效化合物進(jìn)行鍍層。

在離子鍍過(guò)程中，如果在金屬蒸發(fā)的同時(shí)，反應(yīng)氣體被傳遞到涂層室，則可以通過(guò)反應(yīng)形成化合物，這使得在較低的溫度下涂層成為可能。 如果使用其他技術(shù)，熱活化通常只有在非常高的溫度下才有可能。